Литограф — ключевой элемент при производстве микросхем для применения в автомобильной, аэрокосмической отраслях, промышленной автоматике, потребительской электронике и других.
Особенности установки
- Существенно увеличена площадь рабочего поля — 22×22 мм (vs 3,2×3,2 мм).
- На ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин — 200 мм (vs 150 мм).
- Впервые использован твердотельный лазер — более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. В мировой практике для производства таких литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа.
В приемочной комиссии приняли участие представители отраслевых организаций и крупных микроэлектронных производств. Белорусский ПЛАНАР был привлечен в качестве соисполнителя для реализации работ как ключевая организация с профильным научно-техническим заделом всего постсоветского пространства.
В настоящее время ведутся работы по созданию установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Завершение работ запланировано на 2026 год.
Источник: rusnano.com