«Микрон» заявил о завершении разработки фотолитографа с нормами 350 нм. Импортозамещение осуществлялось в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар». Данные фотолитографы выпускает минимальное количество стран.
Суть технологии
Фотолитография — ключевая технология в производстве полупроводниковых устройств, включая микропроцессоры, память и другие интегральные схемы. С помощью фотолитографоф на кремниевые пластины наносятся сложные узоры, что позволяет создавать микроэлектронные компоненты с нанометровыми размерами.
На данный момент мировой рынок фотолиторграфоф переживает бурное развитие. Это обусловлено постоянно растущим спросом на высокопроизводительные чипы для электроники, искусственного интеллекта и многочисленных отраслей промышленности.
Мировые лидеры
Основные игроки на рынке:
- ASML – безусловный лидер, контролируемый более 80% мирового рынка фотолитографоф. Сотрудничает с TSMC, Samsung, Intel и т. д.;
- Nikon – компания сосредоточена на производстве оборудования для DUV (глубокая ультрафиолетовая литография);
- Китай – активно развивает собственное производство, чтобы снизить зависимость от западных технологий. Помехой к этому служат ограничения на экспорт ключевых компонентов и технологий со стороны США.
До 2022 года развитие микроэлектроники в России шло медленными темпами. Благодаря санкциям, ситуация изменилась. Теперь основные усилия сосредоточены на импортозамещении и развитии собственных технологий.
Импортозамещение и независимость
Одним из самых важных направлений в развитии отрасли стало импортозамещение в фотолитографии – ключевого процесса при выпуске микросхем. Данную программу запустили в 2022 году. В ней речь идет о создании оборудования для производства микросхем с проектными нормами 90-65 нм, что представляет собой относительно современный уровень, и 350 нм, который уже не считается столь передовым. Несмотря на это, 350 нм все еще широко применяется в автомобилестроении, авиакосмической отрасли и т. д.
При этом в мире насчитывается менее десятка стран, способных создавать ключевое оборудование для производства микросхем. И теперь, благодаря АО «Микрон», РФ их числе.
Помимо этого, разработка фотолитографа 350 нм осуществлялась в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар». Также в отечественной разработке в качестве излучения применяется твердотельный лазер: мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. Тогда как в импортных аналогах – ртутная лампа.
Также подписывайтесь на обновления Производства.рф во Вконтакте, Одноклассниках, Телеграме и Дзене.